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    副產氯化氫的回收再利用的方法
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    副產氯化氫的回收再利用的方法
        氯化氫氣體為強刺激性,不燃氣體,溶水后有強烈腐蝕性。產品包裝于高壓專用鋼瓶中,處于液態。專用鋼瓶為鋼質無縫氣瓶,瓶內拋光處理。瓶閥為抗腐蝕不銹鋼隔膜閥。鋼瓶設計壓力為12.5Mpa,工作壓力約5-6Mpa。
        副產氯化氫的回收再利用一直是各大相關生產企業最頭疼的事,排放會污染環境,普通回收方法成本又高,那么,面對越來越多的副產氯化氫的產出,那么回收副產氯化氫已迫在眉睫。
        當工藝系統不能回用時,副產氯化氫最常規的利用辦法是副產鹽酸。1990年我國鹽酸總產量按照含氯化氫100%計就已經達到262.3萬t,其中副產鹽酸量50多萬t
        我國副產氯化氫的現狀,詳細分析了近幾年來我國副產氯化氫產量的增加趨勢,以及不同行業副產氯化氫的情況,綜述了各種綜合利用副產氯化氫的方法,重點闡述了各種綜合利用方法的工藝概況和特點,提出了綜合利用副產氯化氫發展方向和實現副產氯化氫增值的建議。
        合理的回收利用不僅可以節約企業生產成本,更能很好的切斷氯化氫對空氣的污染。是真正雙贏的決策。
        化學級氯化氫產品生產裝置于1993年投產,經山東省科委鑒定,主要用于醫藥中間體、農藥及精細化學品制造業。電子級(VLSI)氯化氫產品生產裝置于2003年投產,經北京市科委鑒定,主要用于半導體器件生產中單晶硅片的氣相拋光、外延基座腐蝕及硬質合金制造。5.0N電子級(VLSI)氯化氫產品分別經國家標準物質研究中心和信息產業部專用材料質量監督檢驗中心抽樣檢驗,純度大于99.999%,總雜質含量小于5ppm,產品性能指標與國 際品牌相當。5.0N電子級(VLSI)氯化氫產品經國內外多家半導體重點企業連續大量在單晶硅片氣相拋光和外延基座腐蝕工藝中廣泛使用,制得的器件產品質量與國際知名品牌相當。超純氯化氫產品生產裝置于2005年投產,目前處于試銷階段,主要用作標準物質和科學研究。
        氯化氫產品的生產工藝為本公司專利技術,具有自主知識產權,填補了國內高純氯化氫產品生產空白。氯化氫產品參照SEMIC3.35-1101HCl標準,并執行國家標準GB/T24469-2009(電子級)和企業標準Q/ZWDL001-2006(化學級)。氯化氫產品采用HCl專用鋼瓶包裝,鋼瓶符合國標GB5099-1994或DOT3AA標準,瓶閥為316L不銹鋼隔膜式閥,接口為CGA330。本公司提供氯化氫專用配套設施、設備、閥門、減壓器,并提供優質技術服務和售后服務。本公司具有完備的氯化氫專用鋼瓶脫水設備和技術,為客戶提供鋼瓶處理和維修服務。
    發布時間:2015-06-13 09:56:29
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